摘要:化學(xué)機(jī)械拋光/平坦化(CMP)是一種廣泛用于微電子行業(yè)的工藝,通過(guò)化學(xué)力和機(jī)械力的結(jié)合來(lái)平滑表面。該工藝使用磨蝕性和腐蝕性的漿料來(lái)幫助平整晶片表面。CMP漿料是納米級(jí)磨粒和其他化學(xué)品的復(fù)雜混合物,包括表面活性劑、pH調(diào)節(jié)劑、氧化劑、有...
摘要:化學(xué)機(jī)械拋光/平坦化(CMP)是一種廣泛用于微電子行業(yè)的工藝,通過(guò)化學(xué)力和機(jī)械力的結(jié)合來(lái)平滑表面。該工藝使用磨蝕性和腐蝕性的漿料來(lái)幫助平整晶片表面。CMP漿料是納米級(jí)磨粒和其他化學(xué)品的復(fù)雜混合物,包括表面活性劑、pH調(diào)節(jié)劑、氧化劑、有...
粒徑分布對(duì)Ti-6Al-4V合金粉末流動(dòng)性和LPBF工藝的影響引言3D打印,也稱為增材制造(AdditiveManufacturing),是一種制造技術(shù),通過(guò)將數(shù)字化的三維模型切片并逐層構(gòu)建,從而創(chuàng)建物體的過(guò)程。傳統(tǒng)的制造技術(shù)通常是通過(guò)去除...
高黏度光刻膠顏料分散工藝優(yōu)化與分析高粘度光刻膠用顏料介紹光刻膠是利用光化學(xué)反應(yīng)經(jīng)曝光、顯影、刻蝕、去膠等工藝將需要的圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工襯底上的材料。經(jīng)曝光后,光刻膠在顯影液中溶解度會(huì)發(fā)生變化,從而可以形成圖案。光刻膠是國(guó)際上技術(shù)門(mén)檻最...
液體濃度監(jiān)測(cè)器是一種用于測(cè)量液體樣品中特定組分濃度的設(shè)備。它可以通過(guò)不同的監(jiān)測(cè)方法來(lái)實(shí)現(xiàn),下面是常見(jiàn)的幾種監(jiān)測(cè)方法及其優(yōu)勢(shì):光學(xué)方法:光學(xué)方法利用特定波長(zhǎng)的光線與樣品發(fā)生相互作用,根據(jù)吸收、散射或熒光等現(xiàn)象來(lái)確定樣品中組分的濃度。這些方法具...
單槽壁掛式在線濃度監(jiān)測(cè)儀是一種常用的設(shè)備,用于實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)氣體或液體的濃度。以下是安裝該設(shè)備的一般技術(shù)要求:安裝位置選擇:選擇一個(gè)合適的安裝位置,距離被監(jiān)測(cè)物質(zhì)源頭較近且易于操作和維護(hù)。需要確保設(shè)備與周?chē)h(huán)境有足夠的通風(fēng),并遠(yuǎn)離其他干擾源。固定...
在線激光粒度儀是一種先進(jìn)的儀器,用于實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)和測(cè)量懸浮物或粉體的顆粒大小分布。它采用激光散射原理,結(jié)合先進(jìn)的光學(xué)和信號(hào)處理技術(shù),能夠快速、準(zhǔn)確地獲取顆粒的尺寸信息。其工作原理是基于散射光的特性。當(dāng)激光束照射到樣品中的顆粒上時(shí),顆粒會(huì)散射光線...
大乳粒分析儀集自動(dòng)進(jìn)樣、自動(dòng)稀釋、自動(dòng)檢測(cè)、數(shù)據(jù)處理以及自動(dòng)清洗等全自動(dòng)檢測(cè)功能于一身,為用戶提供可方便、快捷、高效、可靠的粒徑分析。其搭載的LE系列傳感器采用光阻法+光散法單顆粒光學(xué)傳感技術(shù)(SPOS),擁有512通道的超高分辨率,并搭載...
AccuSizer®FXNano清洗方法FXNano傳感器的污染和推薦的清潔方法在過(guò)去的幾年里,已經(jīng)制造了很多FXNano傳感器,在正常工作條件下,硬件組件(激光模塊和電子電路板)基本上沒(méi)有出現(xiàn)故障。簡(jiǎn)而言之,這些硬件組件的可靠性非...