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納米粒徑與電位分析儀的工作原理分析

 更新時(shí)間:2019-05-23  點(diǎn)擊量:6828
NICOMP 380 ZLS&S納米粒徑與電位分析儀采用的設(shè)計(jì)理念優(yōu)化結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),充分有效地融合了動(dòng)態(tài)光散射(Dynamic Light Scattering, DLS)和電泳光散射(ELS)技術(shù),即可以多角度(步長(zhǎng)0.9°)檢測(cè)分析液態(tài)納米顆粒系的粒度及粒度分布,又可以小角度測(cè)量Zeta電位。粒度測(cè)試范圍:0.3nm–10μm。

電泳光散射法(ELS)與粒子的動(dòng)電(Zeta)電位:

 

ELS 是將電泳和光散射結(jié)合起來(lái)的一種新型光散射。它的光散射理論基礎(chǔ)是 準(zhǔn)彈性碰撞理論,只是在實(shí)驗(yàn)時(shí)在式樣槽中多加一個(gè)外電場(chǎng),帶電粒子即以固定 速度向與帶電粒子電性相反的電極方向移動(dòng),與之相應(yīng)的動(dòng)力光散射光譜產(chǎn)生多普勒漂移,這一漂移正比于帶電粒子的移動(dòng)速度,因此實(shí)驗(yàn)測(cè)得譜線的漂移,就可以求得帶電粒子的電泳速度,從而求得ζ-電位。
 

Nicomp 380 ZLS&S納米粒徑與電位分析儀通過(guò)檢測(cè)分析膠體顆粒的電泳遷移率測(cè)量Zeta電位。Zeta電位是對(duì)顆粒之間相互排斥或吸引力的強(qiáng)度的度量,是表征膠體分散系穩(wěn)定性的重要指標(biāo),Zeta電位(正或負(fù))越高,體系越穩(wěn)定。Zeta電位表征的是粒子之間的排斥力。由于大部分的水相膠體體系是通過(guò)粒子之間的靜電排斥力來(lái)保持穩(wěn)定的,粒子之間的排斥力越大,粒子越不容易發(fā)生聚集,膠體也會(huì)越穩(wěn)定。Nicomp 380 ZLS&S結(jié)合了動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)(DLS)和電泳光散射法(ELS),實(shí)現(xiàn)了同機(jī)測(cè)試納米粒子分布和Zeta電勢(shì)電位。
 

 

 

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