動態(tài)光散射是一種按標(biāo)準(zhǔn)時(shí)間來測量技術(shù)，專門針對分散體系中納米粒子的粒徑。光學(xué)測量技術(shù)是測量粒子粒徑在10nm以下*可靠的測量技術(shù)。

化學(xué)機(jī)械拋光液（CMP slurry）的制取和使用過程中需要測試粒度分布和大顆粒的含量。使用傳統(tǒng)的粒度儀以及激光衍射儀器不可能檢測和定量分析CMP的好壞，其尾端大粒子會導(dǎo)致研磨液劃傷晶片，使得生產(chǎn)芯片企業(yè)出現(xiàn)質(zhì)量上不過關(guān)的難題。在工業(yè)生產(chǎn)中有著廣泛的應(yīng)用。有機(jī)殺蟲劑中添加高嶺土后，水果表面可形成一層高嶺土保護(hù)膜阻止害蟲侵害；高嶺土可以作為橡膠的填充劑，橡膠中添加高嶺土可以增加橡膠的強(qiáng)度、柔韌性以及耐磨性。但如果高嶺土中含有超大顆粒，將會嚴(yán)重?fù)p害產(chǎn)品的性能。關(guān)鍵詞：高嶺土, SPOS

    過濾在化學(xué)機(jī)械拋光液（CMP slurry）的制取和使用過程中是*的。使用傳統(tǒng)的動態(tài)光散射粒度儀不可能檢測和定量分析過濾效果的好壞，即不能檢測出導(dǎo)致研磨過程中劃傷晶片的研磨液中大顆粒是否被濾除。有時(shí)過濾器的實(shí)際使用壽命會由于某種因素的影響比預(yù)期的使用壽命要縮短，而過濾器的失效會導(dǎo)致研磨液中的大顆粒劃傷晶片。如果沒有一種方法檢測/監(jiān)測研磨液過濾前后的尾部大顆粒，生產(chǎn)廠家就只能通過頻繁更換過濾器的方法來產(chǎn)品質(zhì)量的*，這樣做既浪費(fèi)人力又浪費(fèi)物力。